پلیمرهای زیست تخریب پذیر ساخته شده توسط روش رسوب دهی شیمیایی بخار

علمی پژوهشی
Print Friendly, PDF & Email

پلیمریزاسیون توسط رسوب دهی شیمیایی بخار  (CVD) روشی ساده برای اصلاح سطوح می‌باشد. در مجله Angewandte Chemie، محققین اولین روش رسوب دهی شیمیایی بخار برای تولید پلیمرهای تخریب پذیر را معرفی نمودند، همچنین مولکول‌های زیستی یا داروها می‌تواند توسط گروه‌های جانبی خاص به آن متصل شوند. این روش جدید، امکاناتی برای کاربردهایی نظیر پوشش دار کردن ایمپلنت‌های زیست تخریب پذیر را فراهم می‌آورد.

رسوب دهی شیمیایی بخار

به گزارش گروه ترجمه و تهیه محتوا مرجع پلیمر در بازار ایران (پلیم پارت)، در پلیمریزاسیون CVD، ترکیبات آغازی بخار شده، در دمای بالا فعال می‌شود و بر روی سطوح پلیمریزه می‌گردد. در کاربردهای پزشکی، ایمپلنت‌های پوشش داده شده به گروه‌های عاملی اجازه می‌دهد تا مولکول‌های زیستی یا داروها متصل گردد. در حال حاضر فقط امکان پوشش دار کردن ایمپلنت‌های تخریب ناپذیر نظیر نخ‌های بخیه، سیستم‌هایی برای کنترل دارو رسانی یا داربست‌های مهندسی بافت وجود دارد.

محققین دانشگاه میشیگان موفق به سنتز اولین پلیمر با استفاده از دو نوع خاص از منومرها  به روش CVD با بدنه‌ای تخریب پذیر شده‌اند. پارا سیکلوفان که معمولا در این فرآیند مورد استفاده قرار می‌گیرد با استال‌های کتون حلقوی ترکیب می‌گردد. در حالی که پلیمرهای کلاسیک بر پایه پارا سیکلوفان‌ها منحصرا از طریق پیوندهای کربن-کربن متصل می‌گردد، استال‌های کتون در طی پلیمریزاسیون تبدیل شده و پیوندهای استری در داخل بدنه پلیمر تشکیل می‌شود. پیوندهای استری می‌تواند در محیط های آبی شکسته شود.

سرعت تخریب بستگی به نسبت دو نوع منومر و همچنین زنجیره‌های جانبی آن دارد. زنجیره‌های جانبی قطبی، باعث کاهش خاصیت آبگریزی فیلم پلیمری و تسریع تخریب می‌شود به دلیل اینکه آب می‌تواند به راحتی به داخل آن نفوذ کند. آزمون‌های کشت سلولی نشان داد که پلیمر و محصولات حاصل از تخریب سمی نمی‌باشند. فیلم‌های پلیمری تخریب پذیر جدید جهت کاربردهای گسترده‌ای برای عاملدار کردن و پوشش دهی سطح در علوم زیستی، پزشکی و همچنین بسته بندی مواد غذایی توسعه پیدا کرده است.

دانلود کامل مقاله:

Backbone-Degradable Polymers Prepared by Chemical Vapor Deposition

2
 
telegram.png

نظر بگذارید

Time limit is exhausted. Please reload the CAPTCHA.