استفاده از کوپلیمر برای کوچک‌ سازی تراشه‌های کامپیوتری - پلیم پارت : مرجع پليمر در بازار ايران
×

منوی بالا

منوی اصلی

دسترسی سریع

اخبار سایت

true
true

ویژه های خبری

true
    امروز  شنبه - ۲۸ مهر - ۱۳۹۷  
true
true
استفاده از کوپلیمر برای کوچک‌ سازی تراشه‌های کامپیوتری

Print Friendly, PDF & Email

مرجع پلیمر در بازار ایران به نقل از ستاد ویژه فناوری نانو: یکی از سؤالاتی که تولیدکنندگان تراشه مطرح می‌کنند، این است که چه میزان می‌توان ترانزیستورهای روی یک مدار را کوچک‌سازی کرد. تاکنون براساس قانون مور، تعداد ترانزیستورهای روی هر تراشه، هر ۱۸ ماه دو برابر شده‌است. هر چند طی سال‌های اخیر به دلیل وجود محدودیت فیزیکی، این سرعت تا حدی کاهش یافته است. منشاء این محدودیت، اثرات تونل‌زنی کوانتومی است.

filereader.php?p1=main_8fbdbf5573b18fae9
اخیراً یک تیم تحقیقاتی موفق به ارائه راهبردی برای تولید ترانزیستور شده‌است که با استفاده از آن می‌توان با سرعت بالا و هزینه کم، ترانزیستورهای زیادی را روی یک تراشه ایجاد کرد.
این گروه از روش خودآرایی مستقیم (DSA) استفاده کردند که در آن از بلوک‌ کوپلیمر برای خودآرایی استفاده می‌شود. ایده اصلی این است که شما با استفاده از لیتوگرافی، الگوی مورد نظر را ایجاد کرده و سپس با استفاده از کوپلیمر، سطح پوشش داده می‌شود. گرما موجب می‌شود تا کوپلیمر خودآرایی داده و الگوهای منظمی را ایجاد کند که قدرت تفکیک بالایی دارند.
محققان این پروژه از ویفر ژرمانیوم، اچ‌کردن پلاسما و لیتوگرافی پرتو الکترونی استفاده کردند تا در نهایت یک لایه نازک از گرافن را ایجاد کنند. سپس با روش پوشش‌دهی اسپینی، پلیمر PS-b-PMMA را روی سطح قرار دادند.
با گرم کردن ویفر در دمای ۲۵۰ درجه سانتیگراد، پلیمر به‌صورت کامل روی سطح در مدت ۱۰ دقیقه خودآرایی می‌دهد، در حالی که در روش‌های معمول این کار ۳۰ دقیقه به طول می‌انجامد. این راهبرد جدید، نقص‌های کمتری به دنبال داشته و قدرت تفکیک آن ۱۰ برابر بیشتر از روش‌های معمول است.
پاول نلی از محققان این پروژه می‌گوید: «این الگو می‌تواند جایگزین مناسبی برای روش‌های الگودهی رایج با پلیمر باشد. سینتیک این خودآرایی سریع‌تر بوده و الگوهای تیزتری ایجاد می‌کند.»
این روش می‌تواند برای تولید تراشه‌های کامپیوتر استفاده شود. ژنکیانگ ما، از محققان این پروژه می‌گوید: «با استفاده از الگوی گرافن می‌توان کارهایی انجام داد که پیش از این امکان‌پذیر نبوده است. از این الگو برای خودآرایی پلیمر می‌توان استفاده کرد.»
نتایج این پروژه در نشریه Scientific Reports منتشر شده‌است.
0

true
برچسب ها :
true
true
true

شما هم می توانید دیدگاه خود را ثبت کنید

- کامل کردن گزینه های ستاره دار (*) الزامی است
- آدرس پست الکترونیکی شما محفوظ بوده و نمایش داده نخواهد شد

Time limit is exhausted. Please reload the CAPTCHA.


true